产品技术参数：
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产品名称 |
型号 |
纯度（%） |
形状 |
颜色 |
| Ge 锗靶材 |
RDB-BC-Ge |
4N,5N | 平面靶，旋转靶 | 金属色 |
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备注：根据用户需求可提供不同粒度的产品。 |
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产品性能：
锗靶材是一种采用高纯度锗金属制成的溅射靶材，主要用于物理蒸发沉积和物理气相沉积过程中，以制
备薄膜和涂层。锗靶材因其良好的化学稳定性和热稳定性，适用于制备具有特殊光学、电学和半导体性
能的材料。在半导体、光学涂层、电子器件和纳米材料等领域有着广泛的应用。
应用方向：
半导体工业：锗靶材用于制备锗薄膜和锗基复合薄膜，这些薄膜在半导体器件、集成电路、光电子器件
等方面有着广泛的应用。
光电子工业：锗靶材在光电子工业中主要用于制备红外光电子器件，如红外探测器、红外成像系统等
利用锗的光学性能，尤其是在红外波段的透明性。
太阳能电池：锗靶材用于制备高效率的多结太阳能电池，锗薄膜可以作为多结太阳能电池的底部电池层
用于吸收太阳光谱的长波部分，提高太阳能电池的光电转换效率。
光纤通信：锗靶材用于制备光放大器，锗掺杂的光放大器可以有效地放大光信号，从而提高光纤通信的
传输距离和速率。
技术支持：
公司可提供金属材料，二维纳米材料，石墨烯材料，稀土材料，高熵合金材料等方面的应用技术支持；
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注意事项：
本品应储藏于阴凉、干燥室内、避免重压。未经表面处理的靶材，使用过程中不宜暴露空气中，以免
吸湿，影响性能和使用效果。
工艺流程：
