Pb 铅靶材

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       产品技术参数:            

          

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形状

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Pb 铅靶材

RDB-BC-Pb

4N,5N 平面靶,旋转靶 金属色

备注:根据用户需求可提供不同粒度的产品。

 

产品性能:

 

        铅靶材是指以铅(Pb)为主要成分的溅射靶材,它在物理气相沉积(PVD)过程中作为靶材使用,通过

        磁控溅射等技术将铅原子或分子沉积到基底上,形成薄膜。铅靶材因其独特的物理和化学性质,在多个

        领域有着广泛的应用。

 

应用方向:                                  

溅射靶材:铅靶材可以作为溅射靶材,用于物理气相沉积(PVD)过程中,通过溅射技术在基底材料上

形成薄膜。这种技术广泛应用于半导体芯片、平面显示器、太阳能电池等领域的薄膜制备。 
化工和电缆制造:铅因其良好的
耐腐蚀性,在化工和电缆制造行业中也有应用。它可以用于制造防腐材

料和导电电缆。 
电池制造:铅是传统
铅酸电池的主要材料,虽然环保问题导致铅酸电池的使用受到限制,但在某些储能

系统中仍有应用。 
防辐射材料:由于铅的密度高,它也被用作辐射屏蔽材料,用于医疗和核工业中防护放射性辐射。 
弹药制造:铅在弹药
制造中也有应用,尽管这导致了环境污染问题,但在军事和射击运动中铅弹仍然被

使用。 

 

 

技术支持:

公司可提供金属材料,二维纳米材料,石墨烯材料,稀土材料,高熵合金材料等方面的应用技术支持;

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手机:
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注意事项:

本品应储藏于阴凉、干燥室内、避免重压。未经表面处理的靶材,使用过程中不宜暴露空气中,以免

吸湿,影响性能和使用效果。

 

工艺流程:

 

产品中心

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