产品技术参数：
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产品名称 |
型号 |
纯度（%） |
形状 |
颜色 |
| Te 碲靶材 |
RDB-BC-Te |
4N,5N | 平面靶，旋转靶 | 金属色 |
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备注：根据用户需求可提供不同粒度的产品。 |
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产品性能：
Te(碲)靶材是一种重要的薄膜沉积材料，广泛应用于半导体生长、薄膜沉积和其他材料科学研究领域。碲
靶材通常用于物理蒸发、磁控溅射和分子束外延等工艺中，以生长碲化物薄膜和其他相关应用。这些靶材
通常具有高纯度和特定的晶体结构，以确保在材料生长过程中获得所需的性能和特性。
应用方向：
半导体和通信领域：碲靶材在半导体行业中用于制备薄膜材料，这些材料在电子和通信设备中扮演着重要
角色。碲化陶瓷靶材的不同类型，如碲化铝、碲化镉、碲化锗等，根据其独特的物理和化学性质，适用于
不同的半导体应用。
新型材料制备：碲靶材在制备二维过渡金属碲化物材料方面具有潜在应用。这些材料因其独特的超导、磁 性、催化活性等性质，在量子通信、催化、储能、光学等领域展现出重要的应用潜力。
特殊钢冶金：碲在冶金行业中的应用较少，但近年来研究表明，碲可以作为合金元素改善特殊钢的性能，
如提高易切削钢的切削性能和非调质钢的磁痕缺陷消除。
电子电气工业：碲化合物在电子电气工业中用于生产红外材料和光电子部件，如激光器、光二极管等。碲
是生产这些高性能半导体材料的重要原材料。
涂层和镀膜技术：碲靶材在物理气相沉积（PVD）过程中作为靶材，用于制备具有特定功能的薄膜涂层，
这些涂层广泛应用于工具、装饰和防护领域。
技术支持：
公司可提供金属材料，二维纳米材料，石墨烯材料，稀土材料，高熵合金材料等方面的应用技术支持；
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注意事项：
本品应储藏于阴凉、干燥室内、避免重压。未经表面处理的靶材，使用过程中不宜暴露空气中，以免
吸湿，影响性能和使用效果。
工艺流程：
