产品技术参数：
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产品名称 |
型号 |
纯度（%） |
形状 |
颜色 |
| Tb 铽靶材 |
RDB-BC-Tb |
4N,5N | 平面靶，旋转靶 | 金属色 |
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备注：根据用户需求可提供不同粒度的产品。 |
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产品性能：
Tb（铽）靶材是一种重要的稀土靶材，主要用于磁控溅射、物理蒸发和分子束外延等工艺中，以生长铽
化合物薄膜和其他相关应用。这些靶材通常具有高纯度和特定的晶体结构，以确保在材料生长过程中获
得所需的性能和特性。
应用方向：
半导体芯片制造：铽靶材在半导体行业中用于制备高性能的绝缘层、导电层和掺杂材料，特别是在高介电
常数（high-k）材料和金属栅（metal gate）技术中，铽的应用提高了器件的性能，降低了能耗。
太阳能光伏：铽靶材在太阳能电池领域的应用能够提高太阳能转换效率，推动光伏技术的发展。
平面显示技术：在液晶显示器（LCD）和有机发光二极管（OLED）等平板显示技术中，铽靶材用于形成透
明导电膜，是现代显示技术的关键材料。
特种涂层：铽靶材用于制备具有特殊光学或磁性属性的涂层材料。
微纳加工：在微电子和纳米技术领域，铽靶材用于制造具有特定功能的微型和纳米结构。
磁光存储材料：铽系磁光材料已达到大量生产的规模，用于计算机存储元件，存储能力提高显著。
磁致伸缩材料：铽元素在磁致伸缩合金中的应用，这些材料在声纳、精密机械运动等领域有重要用途
技术支持：
公司可提供金属材料，二维纳米材料，石墨烯材料，稀土材料，高熵合金材料等方面的应用技术支持；
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注意事项：
本品应储藏于阴凉、干燥室内、避免重压。未经表面处理的靶材，使用过程中不宜暴露空气中，以免
吸湿，影响性能和使用效果。
工艺流程：
