产品技术参数：
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产品名称 |
型号 |
纯度（%） |
形状 |
颜色 |
| Y 钇靶材 |
RDB-BC-Y |
3N,3N5,4N | 平面靶，旋转靶 | 金属色 |
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备注：根据用户需求可提供不同粒度的产品。 |
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产品性能：
Y钇靶材是一种重要的材料，广泛应用于薄膜沉积、半导体生长和其他材料科学研究领域。这些靶材通常
具有高纯度和特定的晶体结构，以确保在材料生长过程中获得所需的性能和特性。钇靶材在半导体和光电
子学领域中具有重要的应用价值。
应用方向：
医疗领域应用
在医疗领域，钇靶材主要用于放射医学中作为X射线和γ射线的源，以及在MRI扫描中作为对比剂。
核能产业应用
钇靶材在核能产业中作为中子吸收剂用于核反应堆的控制杆材料，以及用于固化和存储高放射性废料。
电子制造应用
在电子制造领域，钇靶材用于物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）过程中，作为薄膜材料的
源，对提高半导体器件的性能和可靠性至关重要。
光学和陶瓷材料应用
高分散性超细氧化钇粉在光学材料、陶瓷材料及合金材料等领域中有着广泛的应用，如作为烧结体原
料陶瓷助烧剂、荧光粉的原料等。
技术支持：
公司可提供金属材料，二维纳米材料，石墨烯材料，稀土材料，高熵合金材料等方面的应用技术支持；
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注意事项：
本品应储藏于阴凉、干燥室内、避免重压。未经表面处理的靶材，使用过程中不宜暴露空气中，以免
吸湿，影响性能和使用效果。
工艺流程：
