NiCu 镍铜靶材

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       产品技术参数:            

          

 

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NiCu 镍铜靶材

RDB-BC-NiCu

3N,3N5,4N 平面靶,旋转靶 金属色

备注:根据用户需求可提供不同粒度的产品。

 

产品性能:     

        NiCu镍铜靶材是一种常用于物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)等薄膜沉积技术的材料。

 

应用方向:                                                 

        半导体行业:在半导体芯片制造中,镍铜靶材用于形成导电线路和互联结构,提高芯片的性能和可靠性。 
        光学领域:用于光学元件镀膜,提供高反射率和良好耐腐蚀性的薄膜,应用于激光器、光纤、光学传感

        器等。 
        电子工业:在电子元器件制造中,提供高导电性和良好焊接性的表面涂层,应用于电阻、电容、电感等。 
        航空航天领域:用于制造飞机发动机部件、航空舱壁和导航设备等,利用其高强度和耐腐蚀性能。 
        电子产品制造:常被用于制造电子产品中的导线、触摸屏和连接器等,因其良好的导电性能。 
        化工领域:对腐蚀的抵抗能力较强,常被用于化工管道、储罐和阀门等设备。 
        石油和天然气行业:具有优异的耐腐蚀性能和高强度特性,因此常被用于炼油装置和海底管道等领域。

 

技术支持:

公司可提供金属材料,二维纳米材料,石墨烯材料,稀土材料,高熵合金材料等方面的应用技术支持;

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注意事项:

本品应储藏于阴凉、干燥室内、避免重压。未经表面处理的靶材,使用过程中不宜暴露空气中,以免

吸湿,影响性能和使用效果。

 

工艺流程:

 

产品中心

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