产品技术参数:
产品名称 |
型号 |
纯度(%) |
形状 |
颜色 |
NiCu 镍铜靶材 |
RDB-BC-NiCu |
3N,3N5,4N | 平面靶,旋转靶 | 金属色 |
备注:根据用户需求可提供不同粒度的产品。 |
产品性能:
NiCu镍铜靶材是一种常用于物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)等薄膜沉积技术的材料。
应用方向:
半导体行业:在半导体芯片制造中,镍铜靶材用于形成导电线路和互联结构,提高芯片的性能和可靠性。
光学领域:用于光学元件镀膜,提供高反射率和良好耐腐蚀性的薄膜,应用于激光器、光纤、光学传感
器等。
电子工业:在电子元器件制造中,提供高导电性和良好焊接性的表面涂层,应用于电阻、电容、电感等。
航空航天领域:用于制造飞机发动机部件、航空舱壁和导航设备等,利用其高强度和耐腐蚀性能。
电子产品制造:常被用于制造电子产品中的导线、触摸屏和连接器等,因其良好的导电性能。
化工领域:对腐蚀的抵抗能力较强,常被用于化工管道、储罐和阀门等设备。
石油和天然气行业:具有优异的耐腐蚀性能和高强度特性,因此常被用于炼油装置和海底管道等领域。
技术支持:
公司可提供金属材料,二维纳米材料,石墨烯材料,稀土材料,高熵合金材料等方面的应用技术支持;
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注意事项:
本品应储藏于阴凉、干燥室内、避免重压。未经表面处理的靶材,使用过程中不宜暴露空气中,以免
吸湿,影响性能和使用效果。
工艺流程: