产品技术参数：
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产品名称 |
型号 |
纯度（%） |
形状 |
颜色 |
| 碳化钨 WC靶材 |
RDB-BC-WC |
3N,4N | 平面靶，旋转靶 | 金属色 |
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备注：根据用户需求可提供不同粒度的产品。 |
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产品性能：
碳化钨（WC）靶材是一种由碳化钨粉末经过特定工艺处理制成的材料，广泛应用于物理气相沉积（PVD）
和化学气相沉积（CVD）等薄膜制备工艺中。碳化钨靶材以其极高的硬度、耐热性、良好的导热性和耐腐
蚀性而著称，这些特性使得它成为制造硬质涂层和耐磨材料的理想选择。
应用方向：
半导体制造：在半导体行业中，碳化钨靶材用于光刻刻蚀工艺和薄膜沉积技术，如物理气相沉积（PVD）
和化学气相沉积（CVD），以提高集成电路的性能和可靠性。
工具和模具制造：碳化钨的高硬度和耐磨性使其成为制造硬质合金刀具、高性能切削工具以及超硬材料的
理想材料。
航空航天：在航空领域，碳化钨靶材用于制造火箭发动机部件、飞机发动机的高温部件，以及卫星和火箭
的耐高温部件，以提升发动机的整体性能和可靠性。
能源与环境：碳化钨靶材在核能工业中作为包覆材料，保护核燃料棒，并控制核反应堆的中子通量。在可
再生能源设备中，如太阳能电池和风力涡轮机，碳化钨涂层可保护关键部件免受磨损和腐蚀。
环境工程：碳化钨涂层因其优异的抗腐蚀性能，用于废水处理设备，增强设备的耐用性，减少因腐蚀而导
致的故障和维修需求。
医疗与生物工程：碳化钨靶材在医疗器械和生物传感器中展现出广泛应用，尤其是在需要优异生物相容性
耐用性和稳定性的场合。
电子工业：碳化钨作为半导体材料的衬底材料，用于提高电子器件的性能和效率。
光学应用：碳化钨的高熔点和耐腐蚀性使其在光学设备的高温环境下使用，如反射镜、窗口材料等。
技术支持：
公司可提供金属材料，二维纳米材料，石墨烯材料，稀土材料，高熵合金材料等方面的应用技术支持；
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注意事项：
本品应储藏于阴凉、干燥室内、避免重压。未经表面处理的靶材，使用过程中不宜暴露空气中，以免
吸湿，影响性能和使用效果。
工艺流程：
