产品技术参数：
|
产品名称 |
型号 |
纯度（%） |
形状 |
颜色 |
| PtPd 铂钯合金靶材 |
RDB-BC-PtPd |
2N5,3N5,4N | 颗粒靶 | 银色 |
|
备注：根据用户需求可提供不同粒度的产品。 |
||||
产品性能：
化学稳定性：铂钯合金具有极高的化学稳定性，这使得它们在苛刻的溅射环境中表现出色，适用于需要长期稳定性的应用场合。
良好的导电和导热性能：铂钯合金的导电和导热性能优越，这对于需要快速散热和均匀电流分布的溅射过程非常重要。
高温稳定性：铂钯合金在高温下仍能保持其性能，这对于半导体制造中的高温工艺步骤尤为重要。
磁透率：对于具有磁性的贵金属靶材，磁透率是一个重要的性能指标。铂钯合金可以通过调整其加工工艺来提高磁透率，从而在磁控溅射过程中获得更好的效果。
致密性能：铂钯合金靶材通常具有高的致密性，这有助于减少溅射过程中的微粒飞溅和放电现象，提高溅射速率和薄膜性能。
焊接性能：铂钯合金靶材可以与背板材料（如铜）通过钎焊等方式连接，以提高靶材的强度和导电导热性，同时降低成本。
表面质量：铂钯合金靶材对表面质量有严格的要求，包括表面平整度、加工精度和表面粗糙度。这些因素直接影响溅射设备的装配性能和溅射效率。
晶粒尺寸和晶面取向：铂钯合金靶材的晶粒尺寸和晶面取向对溅射薄膜的质量有显著影响。细小且均匀的晶粒有助于获得均匀的薄膜厚度和优异的薄膜质量。
回收再加工服务：铂钯合金靶材溅射打穿后可以提供回收再加工服务，这有助于提高靶材的利用率，实现科学环保，并节省科研成本。
尺寸和形状：铂钯合金靶材可以定制不同的尺寸和形状，以适应不同的溅射设备和工艺要求。
应用方向：
半导体领域：铂钯合金靶材在半导体行业中用于制备集成电路中的电极、布线薄膜，以及作为储存器电极薄膜和电容器绝缘膜薄膜等。它们也被用于分立器件背面金属化、集成电路先进封装、肖特基二极管势垒层以及超大规模集成电路微电子器件中源、漏、栅极与金属电极间的接触。
磁记录靶材：在磁记录领域，铂钯合金靶材被用于制备垂直磁记录薄膜、硬盘用薄膜以及薄膜磁头等，以实现高密度信息存储。
光记录靶材：在光记录领域，铂钯合金靶材用于制备光盘记录层和反射层，以提高数据存储能力。
电子器件：铂钯合金靶材用于制备钯基电容器、钯基电阻器等电子器件，因其良好的导电和导热性能。
光学应用：在光学领域，铂钯合金靶材用于光学镀膜和光学器件，以提高光学性能。
磁性材料：铂钯合金靶材用于制备磁性薄膜和磁性合金，应用于磁存储器件和传感器等领域。
催化剂：钯作为一种重要的催化剂，广泛应用于化学工业中的各种反应，包括氢化反应、氧化反应、加氢反应等。
饰品和珠宝：钯因其银白色的外观和良好的光泽，被用于制造饰品和珠宝，作为银的替代材料。
医疗器械：钯因其生物相容性和抗腐蚀性，被应用于一些医疗器械中，如手术器械、牙科器械和植入物等。
汽车催化转化器：钯在汽车尾气处理系统中的催化转化器中起到关键作用，能够催化将有害气体转化为无害物质，减少污染。
技术支持：
公司可提供高熵合金熔炼服务，高熵合金铸锭、颗粒、粉末，3D打印金属材料，纳米材料，靶材，石墨烯材料，稀土材料等方面的应用技术支持，具体应用咨询请与销售部人员联系。
我们期待您的来电咨询：
电话：021-59851065
手机：13501956996
技术：13585982692
QQ：738478385
邮箱：sales@rdbest-material.com
注意事项：
本品应储藏于阴凉、干燥室内、避免重压。未经表面处理的靶材，使用过程中不宜暴露空气中，以免
吸湿，影响性能和使用效果。
工艺流程：
