Ru 钌靶材

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产品详情

 

       产品技术参数:

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Ru 钌靶材

RDB-BC-Ru

2N5,3N5,4N 颗粒靶 蓝灰色

备注:根据用户需求可提供不同粒度的产品。

 

 

产品性能:

抗腐蚀能力:钌具有很高的抗腐蚀能力,不易受到酸或气候变化的影响。

硬度:钌靶材具有较高的硬度,适合作为电子器件中的抗磨损材料。

导电性:钌能很好地导电,适用于制作化学反应催化剂和电子器件。

制备工艺:钌靶材可以通过多种方法制备,包括冷等静压(CIP)、热压、真空熔炼、等离子旋涂、粉末冶金、离子束沉积和电弧熔炼等,每种方法都有其特点,适合不同的应用需求。

纯度:市面上钌靶材的纯度通常在99.9%以上,有些供应商甚至能提供更高纯度的产品。

晶体结构:钌通常具有密排六方结构,有时也可以是面心立方结构。

热导率:钌的热导率约为117 W/m·K。

电导率:钌的电阻率大约为7.6 μΩ·cm。

磁性:钌本身是非磁性的,但在合金中可能会表现出磁性。

 

 

应用方向:

电子工业:钌靶材在电子工业中主要用作制造芯片的阻障层,需要选择高纯度的钌靶材,并控制涂层过程中的温度和厚度,以保持电路的完整性和性能。

医学影像领域:在医学影像技术中,钌靶材用于发射X射线,对于物理实验和医学影像技术非常关键。使用钌靶材时,关键是要确保靶材能够承受连续的高能粒子撞击而不发生损坏,因此推荐使用结晶性好、热稳定性高的钌靶材。

物理研究:在粒子加速器中,钌靶材被用作目标材料,用于产生高能粒子流,以探索物质的基本结构和宇宙的起源。建议使用纯度高、结构均匀的钌靶材,以最大程度减少不必要的背景噪声,提高实验数据的准确性。

化学催化:钌靶材作为催化剂,在化学工业中用于加速化学反应。选择适合特定化学反应的钌靶材,同时考虑催化效率和耐久性,以保证长期的有效运行。

半导体行业:钌靶材在半导体芯片的制作过程中,用于晶圆制造和芯片封装环节中的金属溅镀,常采用PVD工艺进行镀膜。

平板显示:在平板显示行业中,钌靶材可以用于制造薄膜,这些薄膜用于显示器的制造,如OLED和LCD的制造中。

光伏电池:在太阳能电池领域,钌靶材可能用于制造某些类型的光伏电池的薄膜。

记录媒体:在信息存储领域,钌靶材可能用于制造用于数据存储的薄膜材料。

 

 

技术支持:

公司可提供高熵合金熔炼服务,高熵合金铸锭、颗粒、粉末,3D打印金属材料,纳米材料,靶材,石墨烯材料,稀土材料等方面的应用技术支持,具体应用咨询请与销售部人员联系。

 

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注意事项:

本品应储藏于阴凉、干燥室内、避免重压。未经表面处理的靶材,使用过程中不宜暴露空气中,以免

吸湿,影响性能和使用效果。

 

工艺流程:

 

产品中心

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